Çip üretimi! İşte yeni çılgın proje: 350 milyon doları harcandı! Duyurmuştu: Yarı iletken üretimde adresi zirve
Yarı iletken üretimi için fotolitografi sistemlerinin lider üreticisi ASML (AS:ASML), en son yeniliği olan 350 milyon dolar olan "Yüksek NA EUV" makinesini Cuma günü Hollanda'nın Veldhoven kentindeki genel merkezinde sergiledi.
Yarı iletken üretimi için fotolitografi sistemlerinin lider üreticisi ASML (AS:ASML), en son yeniliği olan 350 milyon dolarlık "Yüksek NA EUV" makinesini Cuma günü Hollanda'nın Veldhoven kentindeki genel merkezinde sergiledi. Çift katlı bir otobüs büyüklüğündeki bu yeni araç, ASML'nin 125 milyar dolarlık pazardaki hakimiyetini sürdürmesinde merkezi bir rol oynamaya hazırlanıyor.
Intel gibi üst düzey yarı iletken üreticileri için özel olarak tasarlanan "Yüksek NA EUV" makinesi ilk kez tanıtıldı. ASML, kesin sayısı henüz belirlenmemiş olsa da, yıl içinde bu ünitelerden bir dizi üretmeye ve sevk etmeye hazırlanıyor. Şirket, yeni ekipman için özelleştirme ve kurulum çalışmalarının devam ettiğinin altını çizdi.
ASML sözcüsü Monique Mols, yeni makinenin üretim sistemine entegre edilmesinin karmaşıklığını vurguladı. "Mühendislik ve geliştirmeye devam ediyoruz ve kalibre etmek ve üretim sistemine uyduğundan emin olmak için yapılması gereken çok iş var" dedi. "Ayrıca bizim ve müşterilerimiz için dik bir öğrenme eğrisi var."
ASML'nin teknolojisi, en gelişmiş çipleri oluşturmak için gerekli olan aşırı ultraviyole (EUV) fotolitografi makinelerinin tek üreticisi olması nedeniyle pazarda benzersizdir. "Yüksek NA EUV" bu teknolojinin yeni neslini temsil etmektedir. Ancak, bu cihazlarla ilgili yüksek maliyetler nedeniyle müşteriler tarafından benimsenme oranı belirsizliğini koruyor.
Semianalysis'ten Jeff Koch, bazı yonga üreticilerinin rekabet avantajı elde etmek için yeni teknolojiyi kullanmaya başlayabileceğini, ancak çoğunluğun ekonomik olarak uygulanabilir hale gelene kadar beklemesinin beklendiğini belirtti. Eski teknolojiden geçişin 2030-2031 civarında uygun maliyetli hale geleceğini öngörüyor. Analizine göre, bu durum ASML için 2027-2028 yıllarındaki fabrika yükselişi ile sonraki yıllardaki yaygın benimseme arasında kapasite fazlasına neden olabilir.
ASML'nin CEO'su Peter Wennink daha önce sektörün "Yüksek NA EUV" teknolojisinin potansiyelini hafife alıyor olabileceğini belirtmişti. Wennink Ocak ayında yaptığı açıklamada "Şu anda müşterilerimizle yaptığımız görüşmelerde gördüğümüz her şey Yüksek NA'nın daha ucuz olduğu yönünde" demişti.
ASML'nin High NA ürün yönetimi başkanı Greet Storms, müşterilerin yeni araçla hacimli üretime başlamasının muhtemel olduğu 2026-2027 civarında önemli bir değişim beklendiğini belirtti. Intel şimdiden bir pilot cihaz aldı ve operasyonun ölçeği açıklanmamış olsa da önümüzdeki yıl üretime başlamayı planlıyor. TSMC ve Samsung da aracı kullanma niyetlerini dile getirdiler ancak belirli zaman çizelgeleri sunmadılar.
ASML bugüne kadar, bellek uzmanları SK Hynix ve Micron için pilot cihazlar da dahil olmak üzere 10 ila 20 arasında sipariş aldı. Şirket, 2028 yılına kadar yılda 20 üniteye kadar teslimat yapmak için kapasite oluşturuyor. Bu gelişmiş makinelerin hiçbiri, ABD'nin ülkeye son teknoloji ihracatını sınırlama çabaları nedeniyle ASML'nin geçen yılki en büyük ikinci pazarı olan Çin'e satılmayacak.
Çin'e satışların kısıtlanmasına ilişkin endişelere rağmen, ASML geçen ay güçlü bir sipariş defteri bildirdi ve bu da yatırımcıların endişelerini hafifletmeye yardımcı oldu. "Yüksek NA EUV" makinesinin hızla benimsenmesi, ASML'nin satışlarını ve marjlarını artırarak litografi sistemlerindeki pazar liderliğini daha da sağlamlaştırabilir. Bu sistemler, bilgisayar çiplerinin devresi haline gelen silikon gofretler üzerindeki desenleri izlemek için kritik önem taşıyor.
ASML, yeni aracın çip üreticilerinin en küçük çip özelliklerinin boyutunu %40'a kadar azaltarak transistör yoğunluğunu potansiyel olarak üç katına çıkaracağını iddia ediyor. Şirket, eski nesil çipler için litografi makineleri üretme konusunda Nikon ve Canon ile rekabet ediyor, ancak bir EUV litografi aracını pazarlayan ilk ve tek firma olma gibi benzersiz bir konuma sahip.
"Yüksek NA EUV" makinesi, saniyede 50.000 kez gibi inanılmaz bir hızda ikiz lazer darbeleri kullanarak kalay damlacıklarının buharlaştırılması yoluyla EUV ışığı yaratarak çalışıyor. Yeni makinedeki en önemli değişiklik, Carl Zeiss tarafından üretilen karmaşık şekilli aynalardan oluşan daha büyük optik sistemidir. Aşırı pürüzsüzlük derecesinde parlatılmış ve vakum içine yerleştirilmiş bu aynalar, öncekilerden daha fazla ışık topluyor ve odaklıyor. "Yüksek NA" terimi, ASML'nin gelişmiş çözünürlüğe yol açtığını belirttiği yüksek sayısal açıklık anlamına geliyor (Reuters)
